光解膠、uv解膠劑、uv光解膠在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說

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原理(Theory):以紫外光照射膠膜,使其黏性由高黏降至極低黏(不可逆),使黏貼物易於脫離膜。應用(Application): 晶片研磨製程晶片切割製程晶片翻轉製程 ...

https://www.gilliontec.com.tw/原理(Theory):以紫外光照射膠膜,使其黏性由高黏降至極低黏(不可逆),使黏貼物易於脫離膜。應用(Application): 晶片研磨 ...

產品介紹. 原理: 以紫外光照射膠膜,使其黏性由高黏降至極低黏(不可逆),使黏貼物易於脫離。使用POF或PET膜為基材，塗佈壓克力系UV硬化型黏著劑所組成的UV光固化解膠膜。

紫外光解黏膜(膠). 規格介紹: 單/雙面膜可UV解黏. 詳細介紹: 200~400nm全波段或客製化區間波段. 客製化初黏力20g~1Kg. 客製化解黏後之黏性0 g~100g. 乾膜厚度0.6um~5um.

高黏著力，使材料於切割過程不飛料。 2. 解膠後易剝離，可透過照射UV光大幅降低黏著力。產品用途. 1. 矽晶片. 2. 陶瓷機板. 3. 藍寶石基板. 4. IC晶片.

光解膠膜(UV Tape, UV Release Tape): 原理(Theory): 以紫外光照射膠膜,使其黏性由高黏降至極低黏(不可逆) ...

UV型解膠膜可塗佈於PET及PO膜，解膠前的玻璃黏著力可調整500g~2500g之間，解膠後玻璃黏著力可降低到30g以下，可依需求客製化開發。

光解膠膜(UV Tape, UV Release Tape) : 原理(Theory) : 以紫外光照射膠膜,使其黏性由高黏降至極低黏(不可逆),使黏貼物易於脫離膜。應用(Application) : *晶片研磨製程.

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